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    高纯金属溅射靶材

    高纯溅射靶材

    名称:高纯金属溅射靶材
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    溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。


    化学名称 化学符号 纯度(%) 熔点(℃) 密度(g/cm³) 产品状态
    银靶 Ag 4N-5N 961 10.49 靶材
    铝靶 Al 4N-6N 660 2.70 靶材
    金靶 Au 4N-5N 1062 19.32 靶材
    硼靶 B 2N-3N 2300 2.31 靶材
    铋靶 Bi 5N-6N 271.4 9.79 靶材
    碳靶 C 4N 3652 2.28 靶材
    镉靶 Cd 5N-7N 321.1 8.65 靶材
    钴靶 Co 4N 1495 8.90 靶材
    铬靶 Cr 3N-4N 1890 7.19 靶材
    铜靶 Cu 3N-6N 1083 8.92 靶材
    铁靶 Fe 3N-4N 1535 7.86 靶材
    锗靶 Ge 5N-6N 937 5.35 靶材
    铟靶 In 5N-6N 157 7.30 靶材
    镁靶 Mg 4N 651 1.74 靶材
    锰靶 Mn 3N 1244 7.44 靶材
    钼靶 Mo 4N 2617 10.22 靶材
    铌靶 Nb 4N 2468 8.55 靶材
    镍靶 Ni 3N-5N 1453 8.90 靶材
    铅靶 Pb 4N-6N 328 11.34 靶材
    钯靶 Pd 3N-4N 1555 12.02 靶材
    铂靶 Pt 3N-4N 1774 21.50 靶材
    铑靶 Rh 3N5 1955 12.50 靶材
    钌靶 Ru 3N5 2310 12.30 靶材
    锑靶 Sb 5N-7N 631 631 靶材
    钪靶 Sc 3N 1814 2.98 靶材
    硒靶 Se 5N-6N 217 4.28 靶材
    硅靶 Si 5N-7N 1410 2.42 靶材
    锡靶 Sn 5N-6N 232 7.75 靶材
    钽靶 Ta 4N 2996 16.60 靶材
    碲靶 Te 4N-6N 425 6.25 靶材
    钛靶 Ti 4N-5N 1675 4.50 靶材
    钒靶 V 3N 1919 6.11 靶材
    钨靶 W 4N 3410 19.30 靶材
    钇靶 Y 3N 1522 4.47 靶材
    锌靶 Zn 4N-6N 419 7.14 靶材
    锆靶 Zr 4N 1477 6.40 靶材
    铪靶 Hf 2N5-3N 2233 13.31 靶材
    铼靶 Re 3N5 3180 21.02 靶材
    铱靶 Ir 3N5 2410 22.56 靶材
    镧靶 La 3N 921 6.17 靶材
    铈靶 Ce 3N 799 6.70 靶材
    钐靶 Sm 4N 1072 7.54 靶材
    铕靶 Eu 4N 822 5.26 靶材
    钆靶 Gd 3N 1311 7.90 靶材
    铽靶 Tb 3N 3230 8.22 靶材
    镝靶 Dy 4N 1412 8.55 靶材
    铒靶 Er 4N 1522 8.80 靶材
    镱靶 Yb 3N 824 6.98 靶材
    镥靶 Lu 4N 1663 9.84 靶材