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真空镀膜简介

真空镀膜是在真空环境中，将膜材气化并沉积到固体基体上形成固态薄膜的方法。真空镀膜有三个基本要素：真空室、膜材、基体。

1.1真空镀膜的分类

根据膜材从固态变成气态方式的不同，以及膜材原子在真空中运输过程的不同，真空镀膜基本上可以分为①真空蒸发镀、②真空溅射镀、③真空离子镀④真空化学气相沉积镀四大类型，前三种方法称为物理气相沉积（PVD)，后一种称为化学气相沉积（CVD)

⑴真空蒸发镀根据热量来源不同，分为电阻蒸发镀、电子束蒸发镀脉冲激光蒸发镀和感应加热蒸发镀等。

⑵真空溅射镀是在真空条件下，通过气体放电产生氩离子（Ar+)，利用带正电荷的氩离子轰击带负电位的靶材，使靶材发生溅射，溅射出来的原子沉积到基体表面形成薄膜的一种技术。

⑶真空离子镀是指在真空气氛中利用蒸发源或溅射靶使膜材蒸发或溅射，蒸发或溅射出来的一部分粒子在气体放电空间中电离成金属离子，这些粒子在电场的作用下沉积到基体上生成薄膜的一种过程。